美國材料實(shí)驗學(xué)會(huì )（ASTM）1983、1990年頒發(fā)的電子級水質(zhì)標準，已不能適應超大規模集成電路迅速發(fā)展需要。目前ASTM提出了新的、更為嚴格的水質(zhì)指標。Bolindustry膜分離事業(yè)部，專(zhuān)業(yè)為半導體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線(xiàn)路板、光電器件、微電子工業(yè)、大規模集成電路行業(yè)，提供生產(chǎn)所需純水、高純水、超純水工藝設計及成套設備。                  

● 系統產(chǎn)水符合國家《GB/T 11446.1-2013電子級水》標準；
● 采用先進(jìn)的全膜法工藝，實(shí)現更小占地面積，及高度自動(dòng)化運行；
● 實(shí)現電阻率≥18.3MΩ的超純水制備；
● 對產(chǎn)水TOC處理：≤5μg/l；
● 系統產(chǎn)水符合國家《GB/T 11446.1-2013電子級水》標準；
● 主配置采用DOW陶氏膜元件、西門(mén)子EDI、DOWEX拋光樹(shù)脂，以及Aquafine UV及TOC裝置。