半導體生產(chǎn)工藝中晶棒加工所產(chǎn)生的研磨液含砷化鎵成分，該組份呈現黑色細粉狀，易沉淀，經(jīng)攪拌呈懸浮狀態(tài)；業(yè)主原設備工藝采用加藥絮凝后板框壓濾機處理，因砷化鎵粉體極細，板框壓濾機屬于粗過(guò)濾，不能對砷化鎵實(shí)現有效截留，導致廢水含砷超標，不能達到環(huán)保排放要求。我公司通過(guò)多次實(shí)驗操作，采用納米級分離技術(shù)，最終順利完成該項目中試工作。

  

我公司于3月17日，完成最后一次中試數據采集工作。通過(guò)對多組物料進(jìn)行定量實(shí)驗，檢測清液含砷總量，最終確定檢測結果遠低于環(huán)保排放要求0.5mg/L的設計方案，該方案結果符合業(yè)主預期，獲得一致認可肯定。